光刻机环境要求

需要超洁环境。

光刻机的环境要求是超洁环境。光刻机作为最顶级的大型精密设备，对外部环境要求非常苛刻。光刻机本身是对纳米结构进行加工，而通常一粒细小的灰尘都有一百纳米以上，足够毁掉一颗芯片，所以光刻机要求超洁环境，比外部普通环境洁净一万倍。而且还要恒温恒湿，温度恒定在21℃。