西瓜的根系不发达，还不能吸收和利用深层土壤水分。高垄栽培，垄上水分容易渗透，且根系周围土壤水该穴不能满足西瓜生长的需要，造成营养物质生长缓慢，雌花芽小，卵巢小，影响坐果。
此时，如果灌溉水，则地温急剧下降，从而抑制了西瓜根系的生长（西瓜根的生长温度为25-30 C，最低延伸温度为8-10-C），从而导致西瓜长期停滞生长而生长缓慢。产量下降，高垄栽培改为平地栽培（垄的高度从20到25 cm变为大约10 cm），并且垄上的水分流失相对较小。在平板种植西瓜的苗期和延伸期不进行灌溉，土壤水分也可以满足西瓜的正常生长。
西瓜高垄种植是为了能接受更多的光照从而提高地温，增加了光合效能再一个原因是高垄能增加土壤通透性，促进作物根系生长发育，抗逆性增强。
