原理真空镀铝机镀膜 主要是为了减少反射。 为了提高镜头的透光率和影像的质量， 在现代镜头制造工艺上都 要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为 1/4 波 长的物质(通常为氟化物) ，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。
显然，一层膜只对 一种色光起作用， 而多层镀铝膜可对多种色光起作用。 多层镀膜通常采用不同的材料重复的 在透镜表面上镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的 透镜每个表面的反射率为 5%，单层镀膜后降至 2%，而多层镀膜可降至 0.2%，这样，可大 大减少镜头各透镜间的慢反射，从而提高影像的反差和明锐度。 10-3pa 后，在充进 3pa 左右的 Ar 气，膜材或靶材为阴极，待镀基片为阳极，在两极之间加 高于 1000V 的射频电压，产生辉光放电，放电形成的正离子在电场的作用下向靶加速飞去， 轰击靶材，使原子/离子溅落到基片上凝聚成膜。一旦溅射开始，俗称点火，真空室内的电 子增多，电子与气体碰撞的概率大大增加，气体容易电离，因此，维持辉光放电的电压可有 所降低。
