光阻剥离(stripping)是在半导体或显示器的黄光微影工艺的最后一道步骤，就是将上道蚀刻步骤中保护图案的光阻去除，避免光阻残留污染下一道黄光微影工艺，以获得干净的有线路图案的基板。
光阻，亦称为光阻剂，是一个用在许多工业制程上的光敏材料。光阻剥离是一种光阻剥离装置以及光阻剥离方法，通过在过滤装置的滤芯中添加mof材料，该材料在可见光下可以捕捉溶液中的氧气，降低溶液中的溶解氧，进而降低缝隙内外的氧浓度差，缓解因基板剥离光阻所产生铜的掏空现象进一步的，当达到饱和时，可对其进行加热或者紫外光照，将其吸附的氧气释放出去，进而可循环使用滤芯材料。
