透明导电膜用izgo溅射靶材工艺。
背景技术：
目前，用磁控溅射制造的透明导电薄膜，是液晶显示、平板显示、静电屏蔽、太阳能 电池必需的功能材料。目前，直流磁控溅射法是当前国际高档显示器件用透明导电膜的主 导制备工艺。传统工艺以IT0半导体陶瓷(90% In203-10% Sn02)作为溅射源，普遍在氩气 或氩氧混合气氛中基板100-550摄氏度下用直流磁控溅射法制备IT0透明导电薄膜，所制 备的透明导电薄膜品质优良，可见光透过率> 85%，且电阻率小于10X10_，但由于 IT0材料的成本高昂，其中的主组成原料稀有铟金属，地壳中存量有限，需要研究新的低制 造成本的透明导电膜用靶材。
